DMF1000
產品概述
DMF1000 是最先進的微處理器控制的微型拋光設備，性能無與倫比。它既可以對小的膜片鉗玻璃，又可以對大的注射管進行加工處理。DMF1000在實驗室有很多用途。DMF1000基于MF200而設計（MF200是WPI非常受歡迎的微電極拋光儀），并且大大提高了它的性能，使之成為市場上最強大的微電極拋光儀器。
產品特征
DMF1000 系統包含一個特別配置的WPI型號為W30S-LED的研究級復合顯微鏡，它有著高質量金屬涂層，40倍長焦距物鏡，以及1對10倍目鏡。它是目前市場上微型拋光儀中最強大的長焦距物鏡。長焦物鏡減少了在加熱過程中對物鏡棱鏡的損壞。
DMF1000 設計還具有其它優勢，它使用Kohler照明和Abbe聚光器，這使得在微電極直徑小于0.5 μm時，必要地減少了眩光，并呈現更加清晰的圖像。
壓力拋光
DMF1000 裝有一個獨特的數字氣動壓力裝置，在微電極拋光時允許壓縮空氣穿過它；在膜片鉗制作時，壓縮空氣可以用來鈍化玻璃毛細管頂部的錐形，而無需改變頂部開口尺寸。這樣減少了頂部的阻抗，從而降低了膜片鉗記錄時的噪音（Goodman & Lockery, 2000）。
使用簡便
■ 加熱絲
傳統的拋光儀最難和最耗時的操作是，在高倍物鏡下移動加熱絲和微電極到同一觀察區。找到并移動加熱絲和微電極，而不發生碰撞，可以說是一個挑戰。然而使用DMF1000時，這個困難將被消除。因為DMF1000的加熱絲直接固定在顯微鏡物鏡上的，因此可以輕松地移至觀察區的任意位置。加熱絲的低速加熱能力和低熱膨脹系數是DMF1000設計的主要特點。加熱絲的低速加熱能力可以使它達到拋光溫度而不加熱過頭，這樣用戶在拋光時可將微電極頭部移近加熱絲，而不用擔心損壞微電極頭部。低速加熱能力讓用戶無需再另配輔助的風冷系統，加熱絲的低膨脹系數保證了加熱絲在加熱過程中的位移最小，這個特點使得您無需多加猜測微電極相對于加熱絲的相對位置。為了應對多種應用，DMF1000提供了兩種不同的加熱燈絲。H5燈絲是較大規格的，可以彎成U型，用于微電極加工、膜片鉗氣體形成和其它應用。H4燈絲是小規格的，用于膜片鉗拋光很合適。
■ 微電極和顯微鏡載物臺
微電極放置于特別制作的平臺上，這個平臺在顯微鏡載物臺上。微電極和加熱絲的相對位置由載物臺（X, Y, Z）調節器來調節。獨特的設計使得微電極定位和拋光極其容易。顯微鏡載物臺有高質量的軌道，可以進行精確、平滑而穩定的微電極移動。這個構造也讓您無需再另配顯微操作器來控制微電極的移動。
